Dettagli:
Termini di pagamento e spedizione:
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Velocità di pompaggio: | 1401L/s | lubrificazione: | Maglev |
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Flangia: | ISO-F/CF 200 | Raffreddamento: | Acqua |
Evidenziare: | pompe molecolari di turbo,pulsometro turbomolecular,Pompa industriale di Turbomolecular |
Maglev Pump, CXF-200/1401, Raffreddamento ad acqua, a bordo
Il cuscinetto elettromagnetico è anche chiamato "orsi levitante magnetici attivi", costituito da un cuscinetto magnetico, un sensore e un sistema di controllo. Questo design ha risposta dinamica e regolazione tempestiva, la trasmissione ad alta velocità e il funzionamento affidabile.
Le pompe molecolari a levitazione magnetica sono le pompe di cui l'albero è supportato in virtù della forza magnetica.
Le pompe molecolari a levitazione magnetica della serie sono apparecchiature di generazione del vuoto sviluppate da KYKY per soddisfare i requisiti delle applicazioni nei settori della produzione moderna di semiconduttori, produzione di chip, placcatura industriale e strumenti scientifici.
tecnologie:
I vantaggi:
1.Zero attrito durante il funzionamento e basso consumo energetico
2. Facile da ottenere aspirapolvere e aspirapolvere estremamente puliti senza lubrificazione per le pompe
3. Possibilità di estrarre gas corrosivi a lungo termine
4. Alta sicurezza e lunga durata grazie alla protezione dei cuscinetti con sfere ceramiche di precisione
5. potenza di generazione in caso di spegnimento improvviso
specifiche tecniche:
Modello | CXF-200/1401 |
Velocità della pompa (l / s, aria) | 1400 |
Rapporto di compressione | > 1 × 10 7 |
Ultimate Vacuum (Pa) | ≤2 × 10 -6 |
Flangia di ingresso | DN200 ISO K (LF) |
DN200 ISO F | |
DN200 ISO CF | |
Flangia di uscita | KF 40 |
Velocità di rotazione (giri / min) | 33000 |
Tempo di avvio (min) | 6 |
VIB (mm) | <0.05 |
Backing Pump (L / s) | 15 |
Montaggio o Ientation | Qualunque |
Metodo di raffreddamento | acqua |
Peso (kg) (con controller) | 51 |
applicazioni:
Le pompe molecolari a levitazione magnetica serie vengono applicate principalmente ai settori della produzione di semiconduttori, produzione di clip, placcatura industriale e strumenti scientifici, in particolare all'estrazione di gas corrosivi esistenti in etch, CVD, PVD e impianti ionici e gas facilmente coagulati a temperatura normale.
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