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Basso consumo energetico della pompa ISO-K/CF di Turbomolecular di lubrificazione di Maglev

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Basso consumo energetico della pompa ISO-K/CF di Turbomolecular di lubrificazione di Maglev

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Grande immagine :  Basso consumo energetico della pompa ISO-K/CF di Turbomolecular di lubrificazione di Maglev

Dettagli:
Luogo di origine: La Cina
Marca: KYKY
Certificazione: CE
Numero di modello: CXF-200/1400E
Termini di pagamento e spedizione:
Quantità di ordine minimo: 1
Prezzo: Upon request
Imballaggi particolari: Scatola di legno per la spedizione d'oltremare
Tempi di consegna: 4weeks
Termini di pagamento: T/T, L/C
Descrizione di prodotto dettagliata
Flangia: ISO-K/CF DN200 Raffreddamento: Acqua
Lubrificazione: Maglev Velocità di pompaggio: N2 1400L/s
Evidenziare:

pompe molecolari di turbo

,

pulsometro turbomolecular

Pompa Maglev, CXF-200/1400, Raffreddamento ad acqua, ISO-K / CF, Controller esterno

Le pompe molecolari a levitazione magnetica sono le pompe di cui l'albero è supportato in virtù della forza magnetica.

Le pompe molecolari a levitazione magnetica della serie sono apparecchiature di generazione del vuoto sviluppate da KYKY per soddisfare i requisiti delle applicazioni nei settori della produzione moderna di semiconduttori, produzione di chip, placcatura industriale e strumenti scientifici.

tecnologie:

  • Tecnologia di controllo per cuscinetti magnetici: levitazione magnetica a 5 assi, basata su una teoria di controllo internazionale avanzata, per garantire tali vantaggi significativi della trasmissione ad alta velocità come operazioni stabili e affidabili.
  • Tecnologia di controllo della trasmissione del motore: motore CC ad alta velocità e servocomando ad alta efficienza, che ha la massima energia del motore e compensa automaticamente la velocità di rotazione dell'albero, realizzando così un avviamento stabile, un funzionamento affidabile e una funzione di regolazione automatica dell'energia dinamica .
  • Tecnologia del rotore composito in fibra di carbonio: realizzata combinando lega di alluminio ad alta resistenza e fibra di carbonio leggera. caratterizzato da una grande riduzione di peso e da un notevole miglioramento della forza, in modo tale da raggiungere obiettivi di elevata velocità di rotazione, alte prestazioni e alta affidabilità.
  • Tecnologia resistente alla corrosione: le superfici delle parti delle camere vengono trattate con un processo speciale, in modo che le superfici possano resistere per lungo tempo alla corrosione causata dai gas corrosivi nei processi di fabbricazione dei semiconduttori. Inoltre, i gas inerti come N2 sono completamente riempiti nell'inverter delle pompe per proteggere le parti a basso vuoto nelle pompe, in modo tale che si realizzi la funzione di gas corrosivi che esauriscono stabilmente per lunghi periodi.
  • Sistema di controllo della temperatura di riscaldamento: dotato di un riscaldatore elettrico e un regolatore di temperatura, acqua di raffreddamento, riscaldamento osseo, riscaldamento elettrico e calore trasportato dai gas di protezione possono essere monitorati e controllati durante il funzionamento, la temperatura delle pompe può essere mantenuta ad un valore per a lungo termine, alcune sostanze gassose non vengono convertite in sostanze solide a temperatura normale e non vengono depositate nelle pompe e possono essere soddisfatti i requisiti per processi speciali come quelli di incisione.

I vantaggi:

1. Zero attrito durante il funzionamento e basso consumo energetico

2. Facile da ottenere aspirapolvere estremamente pulito e ultra-alto senza lubrificazione per le pompe

3. In grado di estrarre gas corrosivi a lungo termine

4. Elevata sicurezza e lunga durata grazie alla protezione dei cuscinetti con sfere ceramiche di precisione

5. funzione di generazione di energia in caso di spegnimento improvviso

6. Libero da attriti

7. Libero da inquinamento

8. Esente da manutenzione

9. Vibrazione bassa

10. installato in qualsiasi orientamento.

applicazioni:

Estrazione di gas corrosivi esistenti in etch, CVD, PVD e impianti e gas ionici facilmente coagulati a temperatura normale nei settori della produzione di semiconduttori, produzione di clip, placcatura industriale e strumenti scientifici.

specifiche tecniche:

Flangia (A) DN200 CF / ISO-K, ISO-F
Flangia (fuori) KF DN40
Velocità di pompaggio (L / s) N 2 : 1400
Ar: 1360
Lui: 880
H 2 : 560
Rapporto di compressione N 2 : 10 8
Ar: 10 8
Lui: 10 4
H 2 : 10 3
Pressione finale (Pa) CF: 1 × 10 -6
ISO-K / F: 6 × 10 -6
Max. Pressione del vuoto precedente continua (Pa) 100
Max. Pressione del vuoto precedente N 2 : 210
Gas in tutto (sccm) N 2 : 2700
Ar: 980
Lui: 2000
H 2 : 1800
Velocità di rotazione (giri / min) 30000
Tempo di accelerazione (min) ≤8
Tipo di raffreddamento, standard acqua
Consumo di acqua di raffreddamento (L / min) 1
Temperatura dell'acqua di raffreddamento (℃) 20
Connessione elettrica: tensione (V AC) 220
Modello di controller CXF-1400
Peso (kg) 50 (ISO-K / F) 52 (CF)

Dettagli di contatto
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Persona di contatto: sales

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